ASML має намір виготовити не менше 60 EUV-систем у 2026 році, що становить приблизно 20% зростання порівняно з попереднім роком, коли компанія поставила 48 таких пристроїв. У подальшому етапі планується наростити виробництво до 80 одиниць, повідомляє TechSpot.
Наразі ASML стикається з обмеженнями щодо виробничих систем, які вважаються одними з найскладніших у цій галузі. Складання кожної EUV-системи займає кілька місяців і значною мірою залежить від поставок компонентів від широкої мережі підрядників.
Ці апарати використовують лазерні технології для перетворення розплавленого олова на екстремальне ультрафіолетове випромінювання, яке застосовується для нанесення надзвичайно малих схем на кремнієві пластини. Цей процес є настільки делікатним, що навіть найдрібніша частинка пилу може призвести до його збою.
Для подолання цих труднощів ASML планує розширити виробничі потужності своїх фабрик у США, Німеччині та Південній Кореї, а також збудувати новий комплекс у Нідерландах. Крім того, компанія цього року інвестує близько 2,2 мільярда доларів у нерухомість, обладнання та інфраструктуру. Також очікується збільшення витрат на залучення та підготовку інженерів, хоча дефіцит кваліфікованих кадрів у Нідерландах залишається актуальною проблемою.
Крім того, ASML раніше повідомляла про успіхи своїх дослідників у збільшенні потужності джерела світла в установках, що дозволить виробляти до 50% більше мікросхем до 2030 року. Таким чином, клієнти зможуть обробляти приблизно 330 кремнієвих пластин за годину, замість поточних 220.
Слід зазначити, що послугами ASML користуються провідні світові виробники напівпровідників, серед яких такі визнані лідери, як TSMC та Intel.
За даними порталу: mezha.ua